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力晶科技公告本公司取得美國專利局核發US 9576963專利

公告日期 : 2017-03-31

1.專利、商標、著作或其他智慧財產權之內容:垂直通道電晶體陣列及其製造方法2.專利、商標、著作或其他智慧財產權之取得日期:106/02/213.取得專利、商標、著作或其他智慧財產權之成本: NT$ 238,0894.其他應敘明事項:一種垂直通道電晶體陣列,包括多條埋入式位元線、多條位元線接觸窗、多個埋入式字元線與漏電流隔離結構。多個半導體柱構成垂直通道電晶體的主動區。多條埋入式位元線平行設置於半導體基底中,在行方向延伸。多條位元線接觸窗分別設置於埋入式位元線的一側。多個埋入式字元線,平行設置於埋入式位元線上方,在列方向延伸,且隔著閘介電層而連接同一列之半導體柱。漏電流隔離結構設置於埋入式位元線末端部分,以避免相鄰位元線接觸窗之間產生漏電流。<摘錄公開資訊觀測站>